химический каталог




ФОТОЛИТОГРАФИЯ

Автор Химическая энциклопедия г.р. Н.С.Зефиров

ФОТОЛИТОГРАФИЯ, способ формирования рельефного покрытия заданной конфигурации с помощью фоторезистов. ФОТОЛИТОГРАФИЯ обычно включает: 1) нанесение фоторезиста на металл, диэлектрик или полупроводник методами центрифугирования, напыления или возгонки; 2) сушку фоторезиста при 90-110 0C для улучшения его адгезии к подложке; 3) экспонирование фоторезиста видимым или УФ излучением через фотошаблон (стекло, кварц и др.) с заданным рисунком для формирования скрытого изображения; осуществляется с помощью ртутных ламп (при контактном способе экспонирования) или лазеров (гл. обр. при проекц. способе); 4) проявление (визуализацию) скрытого изображения Путем удаления фоторезиста с облученного (позитивное изображение) или необлученного (негативное) участка слоя вымыванием водно-щелочными и органическое растворителями либо возгонкой в плазме высокочастотного разряда; 5) термодинамически обработку (дубление) полученного рельефного покрытия (маски) при 100-200 0C для увеличения его стойкости при травлении; б) травление участков свободный поверхности травителями кислотного типа (например, на основе HF, NH4F или CH3COOH) или сухими методами (например, галогенсодержащей плазмой); 7) удаление маски растворителями или выжиганием кислородной плазмой. Масштаб передачи рисунка фотошаблона обычно 1:1 или 5:1 и 10:1 (при проекц. способе экспонирования).

При изготовлении интегральных схем процесс повторяют многократно на различные технол. слоях материала и при этом каждый последующей рисунок должен быть совмещен с предыду-щим.

Часто для придания фоторезистному покрытию специфический свойств (повышение стойкости к травителям, уменьшение отражения излучения от подложки, планаризация рельефа и др.) формируют многослойные покрытия, в которых один из слоев, обычно верхний, является собственно фоторезистом, а остальные имеют вспомогат. функции. Двухслойное покрытие может быть сформировано и в однослойном фоторезисте путем локальной химический модификации поверхности.

Разновидности ФОТОЛИТОГРАФИЯ: так называемой взрывная (для получения рисунка на пленках металла) и инверсионная (для получения профиля изображения с отрицат. наклоном стенок). В первом случае рисунок получается путем напыления слоя металла на пластину с проявленным фоторезистом, а при снятии фоторезиста удаляют часть металлич. слоя, осевшего на маску; во втором - на позитивном фоторезисте получают негативный рисуноколо

Осн. требования к ФОТОЛИТОГРАФИЯ: высокая разрешающая способность, минимально привносимая дефектность и большая производительность, которые определяются обычно свойствами фоторезистов, параметрами фотолитографич. оборудования и чистотой технол. помещений.

Вместе с другими видами микролитографии - электроно-, рен-тгено- и ионолитографией (соответственно экспонирование потоком электронов, рентгеновскими лучами и ионами легких элементов) - ФОТОЛИТОГРАФИЯ является одним из методов планарной технологии и применяется для изготовления интегральных микросхем, печатных плат, запоминающих устройств, высокочастотных приборов и др.

Литература: M о r о У., Микролитография, пер. с англ., M., 1990. См. также лит. при ст. Планарная технология. Г.К. Селиванов.

Химическая энциклопедия. Том 5 >> К списку статей


[каталог]  [статьи]  [доска объявлений]    [обратная связь]

 

 

Реклама
универсальные сухие строительные смеси
дом на новой риге купить 60 км
журнальный столик ер9504 (стекло)
вызвать мастера по холодильникам

Рекомендуемые книги

Введение в химию окружающей среды.

Книга известных английских ученых раскрывает основные принципы химии окружающей среды и их действие в локальных и глобальных масштабах. Важный аспект книги заключается в раскрытии механизма действия природных геохимических процессов в разных масштабах времени и влияния на них человеческой деятельности. Показываются химический состав, происхождение и эволюция земной коры, океанов и атмосферы. Детально рассматриваются процессы выветривания и их влияние на химический состав осадочных образований, почв и поверхностных вод на континентах. Для студентов и преподавателей факультетов биологии, географии и химии университетов и преподавателей средних школ, а также для широкого круга читателей.

Химия и технология редких и рассеянных элементов.

Книга представляет собой учебное пособие по специальным курсам для студентов химико-технологических вузов. В первой части изложены основы химии и технологии лития, рубидия, цезия, бериллия, галлия, индия, таллия. Во второй части книги изложены основы химии и технологии скандия, натрия, лантана, лантаноидов, германия, титана, циркония, гафния. В третьей части книги изложены основы химии и технологии ванадия, ниобия, тантала, селена, теллура, молибдена, вольфрама, рения. Наибольшее внимание уделено свойствам соединений элементов, имеющих значение в технологии. В технологии каждого элемента описаны важнейшие области применения, характеристика рудного сырья и его обогащение, получение соединений из концентратов и отходов производства, современные методы разделения и очистки элементов. Пособие составлено по материалам, опубликованным из советской и зарубежной печати по 1972 год включительно.

 

 



Рейтинг@Mail.ru Rambler's Top100

Copyright © 2001-2012
(27.06.2017)