химический каталог




Физико-химические основы производства радиоэлектронной аппаратуры

Автор Н.К.Иванов-Есипович

ускорять сушку, так как для завершения релаксационного процесса размещения макромолекул в положениях минимального значения свободной энергии необходимо время. слишком быстрая сушка приводит к возникновению в слое фпк механических напряжений.

исключение по режиму сушки составляет «холодная эмаль» (см. ниже), не допускающая нагрева при сушке. в этом случае закрепление протекает в течение 15 ч, т. е. практически до начала следующей рабочей смены при односменной работе. обработка ведется одновременно для 20 подложек, закрепленных в одной кассете, в которой подложки проходили процесс нанесения.

во всех случаях растворитель должен быть удален полностью. для слоя с остатком растворителя, затрудняющим фотолиз, характерна малая светочувствительность.

экспонирование (iii стадия) следует производить в течение нескольких секунд параллельным пучком уф света с высокой энергией, спектральная характеристика которого согласована со спектральной характеристикой фпк. наибольшее распространение для экспонирования имеют лампы лд-40 и луф-80, применяемые в установках с расстоянием лампа — подложка 50 мм. время экспонирования обычно составляет 1—10 мин в зависимости от источника света, плотности фотошаблона и состава фпкв результате действия света и протекания реакций сшивания органических макромолекул в пространственную компактную структуру объем слоя негативного фпк в облученных местах уменьшается. это позволяет наблюдать рельефное изображение рисунка еще до проявления.

193

В процессе проявления (IV стадия) на поверхности создается защитный рельеф требуемого узора — фоторезистная маска. У негативных ФПК проявление является растворением неполиме-ризованных областей, для чего используется тот же органический растворитель, что применялся для получения требуемой вязкости. У позитивной ФПК проявление связано с химической реакцией превращения входящих органических кислот в растворимые соли, для чего обычно используют сильно разбавленный щелочной раствор (например, тринатрийфосфата Na3PO,,).

Плохое удаление при проявлении происходит из-за передержки при экспонировании, из-за чрезмерной сушки или просто из-за недостаточного проявления.

Закрепление (V стадия) необходимо для дальнейшего образования в оставшемся слое поперечных связей между молекулами и связей с поДложкой с целью обеспечения химической стойкости и повышения адгезии. Чем длительнее предстоит последующее травление сквозь полученную фоторезистную маску, тем выше должна быть температура при закреплении.

Самостоятельным процессом является снятие маски ФПК после выполнения ею своих функций. Применяют три способа снятия маски: химическая деструкция; растворение в органических растворителях; окислительная деструкция в кислородной плазме.

При снятии позитивной ФПК концентрированной H2S04 в смеси с СН202 (30%-ная) при 80° С происходит разрыв органических цепей и образование сульфированных мономеров, которые удаляются при последующей отмывке водой. Недостатком является быстрое истощение раствора и невозможность применения для металлов.

При снятии позитивной ФПК, нанесенной без термического закрепления, в качестве органического растворителя для снятия применяют ацетон, целлозольв. Недостатком является загрязнение поверхности подложки повторным осаждением молекул ФПК из растворителя, поэтому требуется ручная протирка тампоном,

Окислительная деструкция в кислородной низкотемпературной плазме приводит к образованию летучих продуктов, которые в объеме плазмы разлагаются C;cH„-f-0-»-C02-)-H20 и откачиваются насосом установки.

Среди кислотостойких жидких фотополимерных композиций (табл. 19) наиболее удобна в работе «холодная эмаль», названная так в связи с возможностью сушки при комнатной температуре. Она не требует окрашивания и термического закрепления, снятие маски протекает быстро и полностью. К ее недостаткам следует отнести взрыво- и пожароопасность, токсичность. «Холодная эмаль» значительно превосходит широко распространенный в прежние годы поливиниловый спирт по следующим параметрам: высокая пленкообра-зуемость, отсутствие самодубления (в темноте), высокая разрешающая способность (300 лин/мм), большой срок хранения после нанесения (до 30 сут.), высокая кислотостойкость, высокая производительность технологического процесса благодаря исключению операций окрашивания, химического и термического дубления.

«Холодная эмаль» представляет собой композицию на основе акриловых полимеров в виде 5%-ного спиртового раствора сополимера метакриловой кислоты с добавками метилметакрилата, полиэфира и фотоинициатора. В качестве фотоинициатора применяют краситель «метиловый фиолетовый», дающий также окрашивание, необходимое для визуального контроля. Раствор может храниться неограниченно долго при 20°С. Слой ХЭ проявляют в 4%-ном растворе Ыа2СОз с добавкой ПАВ ОП-7 для улучшения смачивания. Проявление длится 4 мин при 35° С. Незасвеченная часть слоя сохраняет растворимость, легко удаляется с подложки и может быть использована повторно. Снятие маски из «холодной эмали» произ

страница 86
< К СПИСКУ КНИГ > 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91

Скачать книгу "Физико-химические основы производства радиоэлектронной аппаратуры" (2.57Mb)


[каталог]  [статьи]  [доска объявлений]  [прайс-листы]  [форум]  [обратная связь]

 

 

Реклама
взять в аренду
Рекомендуем фирму Ренесанс - изготовить лестницу на второй этаж цена - продажа, доставка, монтаж.
кресло ch 994
хранение вещей контейнеры склад

Рекомендуемые книги

Введение в химию окружающей среды.

Книга известных английских ученых раскрывает основные принципы химии окружающей среды и их действие в локальных и глобальных масштабах. Важный аспект книги заключается в раскрытии механизма действия природных геохимических процессов в разных масштабах времени и влияния на них человеческой деятельности. Показываются химический состав, происхождение и эволюция земной коры, океанов и атмосферы. Детально рассматриваются процессы выветривания и их влияние на химический состав осадочных образований, почв и поверхностных вод на континентах. Для студентов и преподавателей факультетов биологии, географии и химии университетов и преподавателей средних школ, а также для широкого круга читателей.

Химия и технология редких и рассеянных элементов.

Книга представляет собой учебное пособие по специальным курсам для студентов химико-технологических вузов. В первой части изложены основы химии и технологии лития, рубидия, цезия, бериллия, галлия, индия, таллия. Во второй части книги изложены основы химии и технологии скандия, натрия, лантана, лантаноидов, германия, титана, циркония, гафния. В третьей части книги изложены основы химии и технологии ванадия, ниобия, тантала, селена, теллура, молибдена, вольфрама, рения. Наибольшее внимание уделено свойствам соединений элементов, имеющих значение в технологии. В технологии каждого элемента описаны важнейшие области применения, характеристика рудного сырья и его обогащение, получение соединений из концентратов и отходов производства, современные методы разделения и очистки элементов. Пособие составлено по материалам, опубликованным из советской и зарубежной печати по 1972 год включительно.

 

 



Рейтинг@Mail.ru Rambler's Top100

Copyright © 2001-2012
(10.12.2016)