химический каталог




Физико-химические основы производства радиоэлектронной аппаратуры

Автор Н.К.Иванов-Есипович

валентности активного радикала. Благодаря значительной вязкости ФПК обрыв органических цепей в результате взаимодействия радикалов протекает медленно. Это позволяет ингибитору оказать сдерживающее влияние [98].

Для некоторых ФПК реакция фотополимеризации идет очень слабо в присутствии кислорода воздуха, который оказывает ингиби186

,® -гК У

да»

5

Рис 69 Отделение инфракрасной части спектра от экспонирующего светового потока: >_ источник света; 2 — дихроическое зеркало-"-ИК и вндимая часть спектра; 4- УФ часть спектра; 5 - фотополимериая

КОМПОЗИЦИИ

рующее действие. При взаимодействии кислорода со свободными радикалами образуются перекис-ные соединения, расщепление которых отнимает значительную часть поглощаемой энергии света. Поэтому экспонирование в вакуумной раме необходимо проводить не только для плотного, беззазорного совмещения фотошаблона и слоя ФПК, но и для ослабления кислородного ингибирования. Сушку слоя целесообразно проводить с ограничением кислорода в атмосфере.

Различают негативные и позитивные ФПК. В негативной ФПК на освещенных участках под действием света происходит полимеризация (реакция фотоприсоединения). В результате радикальной и ступенчатой полимеризации образуются трехмерные структуры. Возникает механически прочный и химически стойкий слой с высокими защитными, маскирующими свойствами.

В позитивной ФПК под действием света пленка, наоборот, приобретает способность к растворению в отличие от незасвеченных участков (реакции фоторазложения).

ФПК характеризуют тремя основными параметрами: светочувствительностью, разрешающей способностью, травителестойкостью.

Светочувствительность определяет зависимость скорости протекания реакций в фотоматериале от освещенности. Продолжительность экспонирования связана со светочувствительностью. При недодержках негативной ФПК полимеризация происходит лишь в верхних слоях, нижние слои сохраняют способность растворяться в проявителе, что выявляется после проявления как плохая адгезия. Передержка приводит к ухудшению разрешающей способности из-за рассеяния света и полимеризации граничной зоны, смежной с засвеченной.

Для ускорения процесса экспонирования расстояние 187

между источником света и слоем должно быть минимальным, так как интенсивность света обратно пропорциональна квадрату расстояния от источника. Для уменьшения нагрева слоя ФПК из-за проникающего ИК-облучения, что приводит к образованию сплошного засвечивания (вуали), необходимо отделять от светового потока ультрафиолетовую часть спектра с помощью дихроического фильтра (рис. 69).

Для определения разрешающей способности применяют штриховые тест-платы (рис. 70).

На разрешающую способность слоя влияет дифракция света на краю и отражение от подложки (рис. 71).

Травителестойкость (кислото- или щелочестойкость) характеризует литографические, защитные свойства фоторельефного, слоя, работающего в качестве маски при травлении нижележащего слоя или при осаждении вещества в открытых местах. Среда, в которую при этом погружают подложку с маской, является агрессивной. Маска должна выполнять защитные функции в этих трудных условиях. Различают три вида дефектов при недостаточной травителестойко-сти — отслаивание, точечное просачивание и подтравливание. Отслаивание является грубым дефектом, оно вызвано плохой адгезией к нижележащему слою. Точечное просачивание является следствием попадания пыли в жидкую пленку ФПК.

При подтравливании вдоль границы вытравливаемого участка под слой проникает травильный раствор (см. рис. 36).

Применяемые в радиоэлектронном приборостроении ФПК по способу образования сплошного слоя на подложке разделяют на сухие и жидкие.

Сухая ФПК — поставляется в виде относительно толстой (20—60 мкм) органической пленки, покрытой с одной стороны тонким (1 мкм) слоем ФР. Во избежание повреждений эта пленка смотана в рулон с двумя прокладками — верхней и нижней (рис. 72). Верхней прокладкой служит поли-этилентерефталатная (лавсановая) пленка (толщиной 25 мкм), хорошо пропускающая ультрафиолетовую часть светового спектра, нижняя — полиэтиленовая пленка (толщиной 25 мкм). Расположенная между ними основная пленка представляет собой окрашенную в синий или красный цвет органическую основу, на которой с наружной стороны, прилегающей к оптически прозрачной верхней прокладке, нанесен слой негативного ФР [99]. •

188

Непосредственно перед накаткой нижнюю полиэтиленовую прокладку отделяют, а оставшуюся двухслойную пленку свежеоткрытой стороной накатывают на поверхность подложки. Накатку осуществляют при нагреве валков до 104±4°С, со скоростью 6 см/с. Наличие в подложке предварительно выполненных отверстий не мешает накатке. Накатанная пленка должна быть выдержана 30 мин перед экспонированием, чтобы завершились усадочные деформирующие процессы, которые могут вызвать искажения.

Особенностью несложного в принципе процесса накатывания является серьезная опасность попадания пылинок под накатываемый слой. Поэтому поверхность подложки должна быть тщательно очищена. Установка

страница 83
< К СПИСКУ КНИГ > 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91

Скачать книгу "Физико-химические основы производства радиоэлектронной аппаратуры" (2.57Mb)


[каталог]  [статьи]  [доска объявлений]  [прайс-листы]  [форум]  [обратная связь]

 

 

Реклама
курсы автокада в москве для кадастровых инженеров
сувениры к пасхе купить
курсы ландшафтного дизайна в москве на вднх для начинающих
гироскоп в скутере фото

Рекомендуемые книги

Введение в химию окружающей среды.

Книга известных английских ученых раскрывает основные принципы химии окружающей среды и их действие в локальных и глобальных масштабах. Важный аспект книги заключается в раскрытии механизма действия природных геохимических процессов в разных масштабах времени и влияния на них человеческой деятельности. Показываются химический состав, происхождение и эволюция земной коры, океанов и атмосферы. Детально рассматриваются процессы выветривания и их влияние на химический состав осадочных образований, почв и поверхностных вод на континентах. Для студентов и преподавателей факультетов биологии, географии и химии университетов и преподавателей средних школ, а также для широкого круга читателей.

Химия и технология редких и рассеянных элементов.

Книга представляет собой учебное пособие по специальным курсам для студентов химико-технологических вузов. В первой части изложены основы химии и технологии лития, рубидия, цезия, бериллия, галлия, индия, таллия. Во второй части книги изложены основы химии и технологии скандия, натрия, лантана, лантаноидов, германия, титана, циркония, гафния. В третьей части книги изложены основы химии и технологии ванадия, ниобия, тантала, селена, теллура, молибдена, вольфрама, рения. Наибольшее внимание уделено свойствам соединений элементов, имеющих значение в технологии. В технологии каждого элемента описаны важнейшие области применения, характеристика рудного сырья и его обогащение, получение соединений из концентратов и отходов производства, современные методы разделения и очистки элементов. Пособие составлено по материалам, опубликованным из советской и зарубежной печати по 1972 год включительно.

 

 



Рейтинг@Mail.ru Rambler's Top100

Copyright © 2001-2012
(03.12.2016)