химический каталог




Физико-химические основы производства радиоэлектронной аппаратуры

Автор Н.К.Иванов-Есипович

охождением ракеля. Возможны два способа отрыва трафарета от подложки: 1) с самоотрывом сетки; 2) с подъемом рамки. По первому способу трафарет устанавливают с точно выверенным зазором (0,5—1 мм) между трафаретом и подложкой, по второму — без зазора, вплотную на подложке (96].

При печати с самоотрывом используют упругие

. . свойства сетки. Прижатый к сетке наезжающий раРис. 65. Одновременная двусторонняя трафаретная печать:

/ — рама с трафаретом; 2— кассета с подложкой; 3 — волна краски; 4 — ракель

184

| 1 / | кель прогибает ее вслед за движением и прижима-" ' ет к подложке по линии касания. Необходимо предусматривать на трафарете свободное поле вокруг рисунка шириной 20 мм для устранения искажений рисунка при прогибе. Отрыв сетки происходит непосредственно вслед за движущимся ракелем за счет ее пружинящих свойств. Однако от переднего фронта волны паста начинает поступать в ячейки сетки еще до того, как трафарет прижат к подложке, т. е. когда сетка на весу. Выступившие при этом сквозь ячейки сетки столбики пасты затем при наезде ракеля расплющиваются между сеткой и подложкой, что несколько искажает оттиск.

При двусторонней печати применяют вертикальное расположение подложки с одновременным движением двух ракелей снизу вверх (рис. 65).

При печати с подъемом рамки применяют принудительный отрыв сетки с помощью дополнительного кинематического устройства. Отрыв сетки производят подъемом рамки со стороны движения ракеля, непосредственно вслед за его проходом (рис. 66). Для этого одна сторона рамки закреплена шар-нирно в плоскости запечатываемой поверхности подложки, а другая поднимается по мере движения ракеля. Движущийся ракель и волна пасты перед ним обеспечивают плотное прижатие трафарета к подложке, что исключает преждевременное продавливание пасты.

Точность оттиска при использовании сетчатого трафарета в значительной степени зависит от пружинящих свойств сетки, натянутой на рамку и находящейся в напряженно-деформированном состоянии. Металл, из которого получают проволоку для металлических сеток, обладает относительно невысоким пределом упругости. Этот предел не должен превышать суммарные усилия, прикладываемые к сетке при нат-яге и движении ракеля. В противном случае происходит необратимая пластическая деформация, сетка вытягивается. Это приводит к смазыванию оттиска, искажению размеров.

МН/м2

Для того чтобы металлическая сетка всегда работала в зоне упругих деформаций, производят деформационное упрочнение сетки путем натяжения на рамку с подтягиванием. Например, предварительное натяжение бронзовой сетки по двум взаимно перпендикулярным направлениям (вдоль основы и утка) производят с усилием 0,8с> где ар — разрушающее напряжение. Возникает относительная деформация 5—10% (рис. 67, кривая OA). Затем нагрузку снимают и вновь прикладывают до значения О.бсгр (кривая О'А'). В результате деформационного упрочнения характеристика сетки принимает вид О'А'СВ вместо ОАВ. При этом рабочее состояние натянутой сетки соответствует точке А' с пределом пропорциональности значительно выше (в 2—3 раза для бронзы), чем в первом случае.

Прочное закрепление сетки в рамке осуществляют с помощью четырех самозащемляющихся зажимов, расположенных вдоль противоположных сторон рамы / (рис. 68). Зажим имеет клиновидный паз, образованный при неразъемном соединении планок 2 и 3. Сложенный вдвое край сетки 4 вкладывают в паз и в образованный сгиб сетки продевают стержень 5. Чем больше усилие натяжения сетки, возрастающее при свинчивании болтового соединения 6, тем сильнее стержень 5 защемляет сетку 4. Благодаря наклону паза наружу от рамы увеличен угол обхвата, что обеспечивает прочное самозащемление сетки [97].

§ 4. ФОТОРЕЛЬЕФНАЯ ПЕЧАТЬ

Фоторельефной печатью называют образование рельефного рисунка на подложке путем нанесения сплошного слоя фотополимерной композиции ФПК или фоторезиста ФР и последующего избирательного экспонирования рисунка, его проявления и закрепления. Под действием экспонирующего ультрафиолетового излучения (X=0,35—0,5 мкм) происходит фотолиз — фотонное инициирование химических реакций. Фотолиз протекает как свободнорадикальная цепная реакция, идущая с нарастающей скоростью. Диффузия свободных радикалов в вязкой среде слоя ФПК настолько незначительна, что фотолиз протекает строго в освещенных участках, обеспечивается высокая разрешающая способность.

В состав ФПК входят, помимо основной органической составляющей, фотоинициатор и ингибитор. Фотоинициатор служит сенсибилизатором, который под действием УФ излучения приобретает избыточную энергию, возбуждается и обеспечивает образование свободных радикалов, необходимых для развития цепной химической реакции в основной органической составляющей. Ингибитор необходим для предотвращения спонтанных реакций, инициированных теплотой при хранении в период между введением фотоинициатора и непосредственным использованием, и для регулирования скорости фотолиза. Механизм действия ингибитора сводится к отдаче атома водорода его молекулой для насыщения свободной

страница 82
< К СПИСКУ КНИГ > 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91

Скачать книгу "Физико-химические основы производства радиоэлектронной аппаратуры" (2.57Mb)


[каталог]  [статьи]  [доска объявлений]  [прайс-листы]  [форум]  [обратная связь]

 

 

Реклама
микрофон в аренду
Компания Ренессанс лестница маршевая - цена ниже, качество выше!
стул изо фото
теплые склады для хранения вещей

Рекомендуемые книги

Введение в химию окружающей среды.

Книга известных английских ученых раскрывает основные принципы химии окружающей среды и их действие в локальных и глобальных масштабах. Важный аспект книги заключается в раскрытии механизма действия природных геохимических процессов в разных масштабах времени и влияния на них человеческой деятельности. Показываются химический состав, происхождение и эволюция земной коры, океанов и атмосферы. Детально рассматриваются процессы выветривания и их влияние на химический состав осадочных образований, почв и поверхностных вод на континентах. Для студентов и преподавателей факультетов биологии, географии и химии университетов и преподавателей средних школ, а также для широкого круга читателей.

Химия и технология редких и рассеянных элементов.

Книга представляет собой учебное пособие по специальным курсам для студентов химико-технологических вузов. В первой части изложены основы химии и технологии лития, рубидия, цезия, бериллия, галлия, индия, таллия. Во второй части книги изложены основы химии и технологии скандия, натрия, лантана, лантаноидов, германия, титана, циркония, гафния. В третьей части книги изложены основы химии и технологии ванадия, ниобия, тантала, селена, теллура, молибдена, вольфрама, рения. Наибольшее внимание уделено свойствам соединений элементов, имеющих значение в технологии. В технологии каждого элемента описаны важнейшие области применения, характеристика рудного сырья и его обогащение, получение соединений из концентратов и отходов производства, современные методы разделения и очистки элементов. Пособие составлено по материалам, опубликованным из советской и зарубежной печати по 1972 год включительно.

 

 



Рейтинг@Mail.ru Rambler's Top100

Copyright © 2001-2012
(10.12.2016)