химический каталог




Физико-химические основы производства радиоэлектронной аппаратуры

Автор Н.К.Иванов-Есипович

еносом его протона к протоноакцепторному участку реагирующей молекулы. Это вызывает смещение ее электронной плотности (поляризация связей), что облегчает протекание химической реакции [42].

Другим видом катализа является гетерогенный катализ на поверхности раздела двух фаз. Поверхность подложки, в том числе полированной (14-й класс) в действительности имеет многочислен84

85

ные субмикроскопические дефекты — вакансии, оборванные химические связи и т. д. Молекулы сенсибилизатора захватываются некомпенсированными химическими связями и удерживаются на поверхности. В результате взаимодействия часть связей внутри адсорбированных молекул ослабевает. Это приводит к повышению их каталитической активности.

юо°с

При проведении химических и электрохимических процессов особое внимание необходимо уделять ослаблению процессов побочных, мешающих. Естественное окисление металлической поверхности с участием атмосферной влаги в интервале между операциями может быть причиной появления дефектов при нанесении последующих слоев. Например, на свежеосажденной пленке меди толщина окисного слоя (Си20 + + CuO) составляет всего 2 нм и это не препятствует получению хорошей адгезии с электрохимически наращиваемой металлической пленкой. Но воздействие атмосферной влаги перед последующим нанесением оказывает решающее влияние на рост окисного слоя: при 100° С в течение 1 ч толщина слоя окислов не увеличивается (рис. 30, а), а при 40°С возрастает вдвое, при 20° С — в четыре раза. Для уменьшения окисления свежеосажденных пленок необходимо сушить подложки только в сушильном шкафу при 100° С.

На скорость окисления большое влияние оказывает состав окружающего воздуха (влажность, агрессивность). За шесть суток хранения в сухом воздухе пленка окиси на меди практически не образуется (рис. 30, б, кривая /), во влажной быстро увеличивается (кривая 2), а в агрессивной (углекислая среда) возрастает особенно сильно (кривая 3). Следовательно, сушильный шкаф должен иметь вытяжку, чтобы избежать образования в нем среды с повышенной влажностью при сушке партии подложек (43].

Для металлических покрытий на трущихся контактных поверхностях особое значение имеет износостойкость, определяемая твердостью осажденной пленки.

На протекание химических и электрохимических процессов одновременно действует две группы факторов: физико-химические и

86 машинные. К физико-химическим относят факторы, определяемые составом раствора, его «выработкой», свойствами подложки, защитной маски и т. д. К машинным факторам относят конструктивные параметры оборудования: способ перемешивания, расположение электродов, барботирование, объем раствора, температура, стабилизация режимов и т. д.

Современное технологическое оборудование для осуществления химических и электрохимических процессов должно отвечать шести основным требованиям:

1) повышение производительности труда (механизация и конвейеризация);

2) охрана труда (пожаро- и взрывобезопасность, устранение действия химикатов на обслуживающий персонал);

3) охрана окружающей среды (замкнутость цикла в использовании воды, регенерация растворов, нейтрализация сточных вод);

4) модульность агрегатов в линии (использование агрегатов одного типа на повторяющихся операциях, возможность сдваивания и страивания для повышения производительности на операциях, которые снижают такт движения конвейера);

5) применение дополнительных механических воздействий (щетки, струйная подача, качание штанг, перекачивание раствора с фильтрацией, пенообразование);

6) автоматическая стабилизация температуры, рН раствора и других параметров технологического режима.

§ 2. ХИМИЧЕСКАЯ МЕТАЛЛИЗАЦИЯ

Природа сенсибилизации и активирования. Сенсактивирование.

При осаждении металлических пленок химическим путем из раствора ионы металла восстанавливаются и осаждаются на подложке, которой приданы каталитические свойства. Химическое осаждение связано с восстановлением (приобретением электронов) иона металла с одновременным окислением (потерей электронов) восстанавливающего химического агента. Так, в щелочном растворе хлорида никеля при наличии надлежащего восстановителя (например, ионов гипофосфита) будут происходить следующие реакции: восстановление:

№2++ 2е--* №0 |

окисление:

РО^ + Н20 POlj- + 2Н+ 4- 2еобщее уравнение реакции

NI2+ + Р0|- + Н20 -I- N10 J + pojj- + 2Н+

Необходимо исключать самопроизвольное восстановление металла в объеме раствора. Для этого подложка, а затем формируемая пленка должны оказывать каталитическое влияние на процесс восстановления, т. е. ограничивать зону реакции поверхностью подложки. Если наносимый металл сам служит катализатором, то

8Z

можно получить отложение любой толщины. Такой эффект автокатализа свойствен Ni, Со, Fe, Си, Сг, а также металлам платиновой группы.

Эффективный восстановитель должен обладать положительным стандартным потенциалом окисления и сохранять свойства в приемлемом диапазоне кислотности.

Кроме восстановителя в раствор при химическом осаждении добавляют комплексообраз

страница 34
< К СПИСКУ КНИГ > 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91

Скачать книгу "Физико-химические основы производства радиоэлектронной аппаратуры" (2.57Mb)


[каталог]  [статьи]  [доска объявлений]  [прайс-листы]  [форум]  [обратная связь]

 

 

Реклама
недорогие букеты лаванды
Компания Ренессанс лестницы винтовые для дома - оперативно, надежно и доступно!
кресло престиж производство
хранение индивидуальный склад в москве

Рекомендуемые книги

Введение в химию окружающей среды.

Книга известных английских ученых раскрывает основные принципы химии окружающей среды и их действие в локальных и глобальных масштабах. Важный аспект книги заключается в раскрытии механизма действия природных геохимических процессов в разных масштабах времени и влияния на них человеческой деятельности. Показываются химический состав, происхождение и эволюция земной коры, океанов и атмосферы. Детально рассматриваются процессы выветривания и их влияние на химический состав осадочных образований, почв и поверхностных вод на континентах. Для студентов и преподавателей факультетов биологии, географии и химии университетов и преподавателей средних школ, а также для широкого круга читателей.

Химия и технология редких и рассеянных элементов.

Книга представляет собой учебное пособие по специальным курсам для студентов химико-технологических вузов. В первой части изложены основы химии и технологии лития, рубидия, цезия, бериллия, галлия, индия, таллия. Во второй части книги изложены основы химии и технологии скандия, натрия, лантана, лантаноидов, германия, титана, циркония, гафния. В третьей части книги изложены основы химии и технологии ванадия, ниобия, тантала, селена, теллура, молибдена, вольфрама, рения. Наибольшее внимание уделено свойствам соединений элементов, имеющих значение в технологии. В технологии каждого элемента описаны важнейшие области применения, характеристика рудного сырья и его обогащение, получение соединений из концентратов и отходов производства, современные методы разделения и очистки элементов. Пособие составлено по материалам, опубликованным из советской и зарубежной печати по 1972 год включительно.

 

 



Рейтинг@Mail.ru Rambler's Top100

Copyright © 2001-2012
(11.12.2016)