химический каталог




Проектирование процессов и аппаратов химической технологии

Автор И.Л.Иоффе

ционной трубы:

а) для аппаратов с кипением раствора в трубах греющей камеры

(6.37)

A, = V<°-3-i-0,6)4,1..

где dm внутренний диаметр кипятильных труб, м;

б) для аппаратов с вынесенной зоной кипения или аппаратов с принудительной циркуляцией

Л„ = '\А0'9-5-1>6>4.Я- (б-38)

Площадь сечения внутренней циркуляционной трубы составляет 25—35 % сумарной площади сечения всех трубок (при

128 вынесенной зоне кипения площадь сечения циркуляционной трубы обычно значительно больше). При расчете желательно не превышать значения ?>ц, чтобы не увеличивать диаметр греющей камеры.

4. Объем парового пространства (сепаратора) выпарного аппарата:

VC=*W/W", (6.39)

где W'—допустимое напряжение парового пространства, кг/(м3-ч).

Допустимое напряжение парового пространства зависит от давления в аппарате и способа ввода парожидкостной смеси. При вводе парожидкостной смеси в паровое пространство ниже уровня раствора (например, в выпарном- аппарате с уровнем раствора выше кипятильных труб) допустимые напряжения меньше, чем в случае ввода смеси над уровнем раствора.

Значение W приближенно определяется по формуле [2]

W'^hhWiTM. (6.40)

Здесь U/АТМ — значение допускаемого напряжения парового пространства при р — 0,1 МПа, составляющее для чистой воды 2600 кг/(м2-ч), для растворов солей — 1000 кг/(м2-ч). Для концентрированных пенящихся растворов V/АТМ уменьшают примерно в два раза.

Значения /] в зависимости от давления:

Абсолютное 0,04 0,06 0,08 0,1 0,15 0,2 0,25 0,3 0,4

давление, МПа

fi 0,85 0,87 0,92 1 1,35 1,7 2,05 2,4 3,1

Значения /г в зависимости от уровня Я раствора над точкой ввода парожидкостной смеси в паровое пространство:

Н, м 0 0,05 0,1 0,15 0,2 0,3 0,4 0,5

ft 1 0,83 '0,69 0,59 0,51 0,4 0,32 0,27

Объем парового пространства выпарного аппарата должен обеспечивать достаточно полное отделение от вторичного пара капелек упариваемого раствора во избежание потери раствора и загрязнения конденсата последующего корпуса (в многокорпусных установках) или загрязнения воды в барометрическом конденсаторе.

С повышением скорости движения пара увеличивается подъемная скорость и унос жидкости. Когда скорость движения пара больше скорости витания капли, последняя поднимается и уносится паром при любой высоте парового пространства.

Скорость витания капли определяется по формуле [8]:

?»т = У*е(Рж-Рп)<У(3?рп). <6-41>

где rfK — диаметр капли, м; рж и рр — плотность соответственно жидкости и пара, кг/м3; | — коэффициент сопротивления.

129

При 0,2 < Re = ШпАрп/цп < 500 коэффициент |= 18,5/Re0.6, при 500 < Re < 15-104 коэффициент | = 0,44.

5 И? Л. Иоффе

Скорость пара в паровом пространстве:

»„ = Г/(р„-0,785Ос?), (6-42)

где Ос —диаметр сепаратора, м (может быть принят равным диаметру греющей камеры или большей величине, но в пределах диаметра сепаратора по ГОСТ 11987—81).

Скорость пара в паровом пространстве (по сечению сепараг тора) не должна превышать 2 м/с при атмосферном давлении и 7 м/с при р = 0,01 МПа (рис. 6.5).

Высоту парового пространства определяют по формуле

ff-4Vc/(ftD»). (6.43)

Найденное значение и не должно превышать высоту парового пространства по ГОСТ 11987—81.

Высоту парового пространства в аппаратах с соосной греющей камерой можно определить, используя номограмму ЦКТИ [8], с помощью которой, зная абсолютное давление вторичного пара р..п, скорость выхода пара из кипятильных труб а)Тр и диаметр сепаратора Dc, можно найти допускаемую нагрузку q (в т/(м-ч)) на единицу длины парового пространства.

В соответствии с этим высота парового пространства будет равна:

Hz*~Wlq'. (6.44)

(6.45)

Скорость выхода пара из кипятильных труб: ?ТР-*/<РЛ

где / = яйгъкпЦ — суммарная площадь сечеиия кипятильных труб, м*. 1

В случае пенящегося раствора величина допускаемой нагрузки q дол'жна быть уменьшена в 1,5—3 раза. Растворы, склонные к пенообразованию, обладают высокой вязкостью и низким значением поверхностного натяжения, т. е. они образуют тонкие и стойкие пленки вокруг пузырьков водяного пара.

5. Толщина трубной решетки зависит от давления рабочих сред, диаметра корпуса и труб. Минимальная толщина стальной решетки равна:

«мин = (<<иар/8) + 5 мм, (6.46)

где d„ap — наружный диаметр трубки, мм. 130

6.2.2. Расчет вспомогатепьного оборудования

Расчет барометрического конденсатора. Создание вакуума в выпарных аппаратах, работающих под разрежением, достигается путем конденсации образующихся вторичных паров. Конденсация пара может осуществляться либо в поверхностных конденсаторах, либо в конденсаторах смещения.

В поверхностных конденсаторах получающийся конденсат не смешивается с охлаждающей жидкостью. Такие конденсаторы применяются либо тогда, когда необходимым условием является получение чистого конденсата, либо тогда, когда в конденсате имеются химически агрессивные или вредные вещества, сброс которых в канализацию или использовани

страница 38
< К СПИСКУ КНИГ > 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97

Скачать книгу "Проектирование процессов и аппаратов химической технологии" (3.61Mb)


[каталог]  [статьи]  [доска объявлений]  [прайс-листы]  [форум]  [обратная связь]

 

 

Реклама
шинглас континент америка
купить контактные линзы acuvue advance
билеты на спектакль поющие струны души
увоп-кд-в-10-6 вентилятор

Рекомендуемые книги

Введение в химию окружающей среды.

Книга известных английских ученых раскрывает основные принципы химии окружающей среды и их действие в локальных и глобальных масштабах. Важный аспект книги заключается в раскрытии механизма действия природных геохимических процессов в разных масштабах времени и влияния на них человеческой деятельности. Показываются химический состав, происхождение и эволюция земной коры, океанов и атмосферы. Детально рассматриваются процессы выветривания и их влияние на химический состав осадочных образований, почв и поверхностных вод на континентах. Для студентов и преподавателей факультетов биологии, географии и химии университетов и преподавателей средних школ, а также для широкого круга читателей.

Химия и технология редких и рассеянных элементов.

Книга представляет собой учебное пособие по специальным курсам для студентов химико-технологических вузов. В первой части изложены основы химии и технологии лития, рубидия, цезия, бериллия, галлия, индия, таллия. Во второй части книги изложены основы химии и технологии скандия, натрия, лантана, лантаноидов, германия, титана, циркония, гафния. В третьей части книги изложены основы химии и технологии ванадия, ниобия, тантала, селена, теллура, молибдена, вольфрама, рения. Наибольшее внимание уделено свойствам соединений элементов, имеющих значение в технологии. В технологии каждого элемента описаны важнейшие области применения, характеристика рудного сырья и его обогащение, получение соединений из концентратов и отходов производства, современные методы разделения и очистки элементов. Пособие составлено по материалам, опубликованным из советской и зарубежной печати по 1972 год включительно.

 

 



Рейтинг@Mail.ru Rambler's Top100

Copyright © 2001-2012
(23.07.2017)