![]() |
|
|
Технология полупроводникового кремнияь метода по бору 6 • 10"' % (по массе). Метод требует высокой чистоты используемых реактивов и графита, специальной посуды и проведения контрольных опытов, которые вносят существенные поправки и значительно снижают потенциальные возможности этого способа. Анализ технического кремния проводят химическим методом. Для определения молекулярного состава смесей хлорсиланов используют хроматографйческие методы анализа, позволяющие определить наличие три-, тетра- и дихлорсилана, моносилана, диметилхлор-силана, фосгена, метилхлорсиланов, по лисиланхлоридов и др. в различных смесях хлорсиланов. Этим методом определяют состав конденсата-трихлорсилана, кубовых остатков и т.п. Методика основана на методе газожидкостной хроматографии с программированием температуры. Используется хроматограф "Цвет-100", ХЛ-7 или аналогичные им по техническим характеристикам с детектором по теплопроводности. Пробу вводят из ампулы или щпри-це^ Используется также система программирования температуры термостата колонок. Длина хроматографической колонки 4 м, диаметр 2-4 мм. Насадка хроматографической колонки представляет собой жидкую фазу (например, полиметилсилоксановые жидкости), нанесенную на твердый спланированный носитель (хроматрон или сферохром) размером 9,250-0,315 мм. В качестве газа-носителя используют гелий высокой чистоты. Идентификацию компонентов проводят по порядку выхода и по относительным удерживаемым объемам. На диаграммной ленте измеряют ширину и высоту пиков, а затем по рассчитанной площади пиков оценивают относительную концентрацию. Предварительно на стандартных смесях оценивают коэффициент относительной чувствительности. Предел обнаружения 10"1-10~3 % (по массе), ошибка ± 20 %. При отборе проб трихлорсилана для проведения анализа, в процессе анализа, а также при получении и очистке три- и тетрахлорсилана происходит загрязнение их твердыми частицами (преимущественно продуктами гидролиза). Для снижения содержания взвешенных частиц в хлорсиланах часто используют отстаивание в течение 10-15 сут. Оценку качества хлорсиланов по содержанию взвешенных частиц осуществляют автоматическим контролем на приборе, работа которого основана на фотоэлектрическом методе счета [128]. Метод позволяет определить частицы. размером 2-40 мкм в непрерывном потоке жидкого продукта с содержанием частиц в 1 л 102-105. 211 гельной зонной плавки. Кроме этого, определив ИК-спектроскопией содержание в монокристаллах кремния углерода, бора и других примесей, можно косвенно судить о содержании этих элементов в хлорсиланах и моносилане. Из указанных методов анализа чистоты хлорсиланов наибольшее распространение получил разработанный фирмой "Сименс" (ФРГ) метод кварц-тест, сущность которого заключается в следующем. В стерильных условиях проба хлорсилана испаряется и потоком водорода переносится в кварцевый реактор, в котором помещен пруток монокристаллического кремния диам. 7 мм, нагреваемый до температуры 1453-1473 К токами высокой частоты (индукционный нагрев). На кремниевом прутке за счет реакции водородного восстановления хлорсилана из газовой фазы осаждается монокристаллический слой кремния. Осаждение кремния прбводят обычно при мольном соотношении трихлорсилан - водород в пределах 1:12 - 1:15. Длительность процесса, включая все вспомогательные операции, составляет 5-6 ч. При этом получают монокристаллы кремния диам. 14-16 мм. Затем на гранях монокристалла измеряют УЭС и тип проводимости; УЭС является показателем качества трихлорсилана. Например, по данным фирмы "Ваккер" (ФРГ), трихлорсилан, обеспечивающий получение монокристалла кремния методом кварц-тест с показателями > 2000 Ом ? см п-типа проводимости или > 5000 Ом ? см р-типа проводимости, дает возможность гарантированно получать поликристаллический кремний с уровнем по бору > 3000 Ом • см и уровнем доноров > 300 Ом • см. Глава IV. ТЕХНОЛОГИЯ И ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ПОЛИКРИСТАЛЛИЧЕСКИХ КРЕМНИЕВЫХ СТЕРЖНЕЙ Ранее уже указывалось, что для производства поликристалличёских кремниевых стержней наибольшее промышленное распространение получили методы водородного восстановления хлорсиланов и термического разложения силана. 1. ПОЛУЧЕНИЕ КРЕМНИЕВЫХ СТЕРЖНЕЙ В ПРОЦЕССЕ ВОДОРОДНОГО ВОССТАНОВЛЕНИЯ ХЛОРСИЛАНОВ Физико-химические основы водородного восстановления хлорсиланов Температура начала образования кремния в процессе водородного восстановления трихлорсилана 1073-1173 К. Процесс водородного 213 восстановления хлорсиланов обычно осуществляют при температурах стержней-подложек 1273-1473 К. Согласно термодинамическим расчетам [129] в процессе осаждения происходят следующие реакции: SiHCl3 l/2Si + l/2SiCl4 + НС1; SfflCL, s SiCl2 + HC1; SiCL + H2 * SiHCl3 + HC1; SiCl2 « 1/2S1 + l/2SiCl4; SiCl4 + H2^Si + 2HCl. Здесь приведены фактически все соединения системы Si-H-Cl, которые экспериментально были обнаружены в газовой фазе при осаждении кремния: Для инженерных расчетов обычно используют следующие реакции: SiHCl3 + Н2 Si + ЗНС1; 4SiHCl3 - Si + 3SiCl4 + 2H2 |
< К СПИСКУ КНИГ > 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 100 101 102 103 104 105 106 107 108 109 110 111 112 113 114 115 116 117 118 119 |
Скачать книгу "Технология полупроводникового кремния" (4.95Mb) |
[каталог] [статьи] [доска объявлений] [прайс-листы] [форум] [обратная связь] |
|
Введение в химию окружающей среды. Книга известных английских ученых раскрывает основные принципы химии окружающей
среды и их действие в локальных и глобальных масштабах. Важный аспект книги
заключается в раскрытии механизма действия природных геохимических процессов в
разных масштабах времени и влияния на них человеческой деятельности.
Показываются химический состав, происхождение и эволюция земной коры, океанов и
атмосферы. Детально рассматриваются процессы выветривания и их влияние на
химический состав осадочных образований, почв и поверхностных вод на континентах.
Для студентов и преподавателей факультетов биологии, географии и химии
университетов и преподавателей средних школ, а также для широкого круга
читателей.
Химия и технология редких и рассеянных элементов. Книга представляет собой учебное пособие по специальным курсам для студентов
химико-технологических вузов. В первой части изложены основы химии и технологии
лития, рубидия, цезия, бериллия, галлия, индия, таллия. Во
второй
части книги изложены основы химии и технологии скандия, натрия, лантана,
лантаноидов, германия, титана, циркония, гафния. В
третьей части книги изложены основы химии и технологии ванадия, ниобия,
тантала, селена, теллура, молибдена, вольфрама, рения. Наибольшее внимание
уделено свойствам соединений элементов, имеющих значение в технологии. В
технологии каждого элемента описаны важнейшие области применения, характеристика
рудного сырья и его обогащение, получение соединений из концентратов и отходов
производства, современные методы разделения и очистки элементов. Пособие
составлено по материалам, опубликованным из советской и зарубежной печати по
1972 год включительно.
|
|