химический каталог




Поверхностные силы

Автор Б.В.Дерягин, Н.В.Чураев, В.М.Муллер

аких случаев Служат

эксперименты [1, 2], в которых наблюдался медленный рост силы,

необходимой для разъединения скрещенных нитей, погруженных

в различные растворы. Наблюдаемая кинетика прилипания объясняется медленно прогрессирующим утоныпением жидкой прослойки и, следовательно, медленным снижением равновесного расклинивающего давления в результате релаксации эффективного расклинивающего давления. г #

Помимо приведенной выше общей схемы, лежащей в основе этого явления, можно указать и на частные случаи. Так, при быстром утоныпении прослойки раствора электролита плотность заряда поверхностей раздела вследствие задержки перестройки адсорбционного равновесия ионов может оставаться постоянной, но после установления адсорбционного равновесия плотность заряда падает, а вместе с ней падает и электростатическая слагающая расклинивающего давления. Возможно, подобный механизм лежит в основе известных опытов Бузага (см. [2]), наблюдавшего постепенный рост адгезии частиц кварца к стеклянным стенкам в растворах электролита.

Существует, однако, несколько иной возможный механизм «кинетики прилипания», или релаксации неравновесного расклинивающего давления. Он сможет реализоваться в тех случаях, когда у поверхностей прослойки образуются граничные слои с особой структурой, измененной по сравнению со структурой жидкой фазы в объеме. При утоныпении прослойки и наступлении перекрытия граничных слоев ее обеих поверхностей должна разрушаться особая структура периферических частей граничных слоев и, возможно, одновременно могут перестраиваться остальные их части. Задержка процессов структурной перестройки также может объяснить медленное утоныпение прослоек и параллельный рост силы прилипания в упомянутых опытах 1 [1—3].

Следует подчеркнуть, что различить два механизма релаксации — диффузионный и структурный — можно, основываясь на томА что период первого, диффузионного, механизма релаксации должен быть пропорционален квадрату линейных размеров прослойки. В случае прослойки, разделяющей две малые, коллоидных размеров, выпуклые частицы, он должен быть весьма мал. Период же структурной релаксации от размеров прослойки зависеть не должен. Впрочем, в тех случаях, когда речь идет о результативности соударений коллоидных частиц, совершающих броуновское движение, период диффузионной релаксации, несмотря на свою малость, может оказаться много больше длительности соударения и потому должен приниматься в расчет.

Медленность процессов диффузии затрудняет измерение равновесного расклинивающего давления жидких прослоек между плоскопараллельными поверхностями двух твердых тел. Поэтому следует предпочесть методику, основанную на измерении равновесного взаимодействия шариков или скрещенных цилиндров. Хотя при этом для получения значений П (Н) требуется определять производную dFJdff, в ряде случаев интерес представляет непосредственно интеграл, стоящий в правой части уравнения (III.6), выражающий избыточную свободную энергию G (Н) плоскопараллельной прослойки толщиной h — Н на единицу ее площади.

§ 3. Смачивающие пленки

1 Элементарные подсчеты показали, что объяснение тех же опытов вязким тормошением утоныпения прослойки невозможно.

Прослойки между твердыми телами имеют при заданных температуре, давлении и химических потенциалах компонентов только одну степень свободы, а именно толщину. В отличие от этого смачивающая пленка, даже если вначале она была плоскопараллельной, может менять свой профиль, приобретая неодинаковую толщину на разных участках. Кроме того, она может обмениваться компонентами со смежной газовой фазой за счет испарения или конденсации.

Рассмотрим условия равновесия системы, состоящей из плоской твердой подложки, на которой находятся объемная жидкая фаза и тонкая плоскопараллельная смачивающая пленка, являющаяся ее частью, граничащие с равновесной газовой фазой. Ввиду того что подложка твердая, ее поверхность можно считать нерастяжимой. Поэтому в отличие от жидких подложек площадь подложки в данном случае не является одной из

страница 31
< К СПИСКУ КНИГ > 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 100 101 102 103 104 105 106 107 108 109 110 111 112 113 114 115 116 117 118 119 120 121 122 123 124 125 126 127 128 129 130 131 132 133 134 135 136 137 138 139 140 141 142 143 144 145 146 147 148 149 150 151 152 153 154 155 156 157 158 159 160 161 162 163 164 165 166 167 168 169 170 171 172 173 174 175 176 177 178 179 180 181 182 183 184 185 186 187 188 189 190 191 192 193 194 195 196 197 198 199 200 201 202 203 204 205 206 207 208 209 210 211 212 213 214 215 216 217 218 219 220 221 222 223 224 225 226 227 228

Скачать книгу "Поверхностные силы" (3.52Mb)


[каталог]  [статьи]  [доска объявлений]  [прайс-листы]  [форум]  [обратная связь]

 

 

Реклама
анонимный венеролог в москве
суз-25 купить спб
Дом в поселке Park Ville 718 кв. м.
алиса блокада 30 лет концерт билеты москва

Рекомендуемые книги

Введение в химию окружающей среды.

Книга известных английских ученых раскрывает основные принципы химии окружающей среды и их действие в локальных и глобальных масштабах. Важный аспект книги заключается в раскрытии механизма действия природных геохимических процессов в разных масштабах времени и влияния на них человеческой деятельности. Показываются химический состав, происхождение и эволюция земной коры, океанов и атмосферы. Детально рассматриваются процессы выветривания и их влияние на химический состав осадочных образований, почв и поверхностных вод на континентах. Для студентов и преподавателей факультетов биологии, географии и химии университетов и преподавателей средних школ, а также для широкого круга читателей.

Химия и технология редких и рассеянных элементов.

Книга представляет собой учебное пособие по специальным курсам для студентов химико-технологических вузов. В первой части изложены основы химии и технологии лития, рубидия, цезия, бериллия, галлия, индия, таллия. Во второй части книги изложены основы химии и технологии скандия, натрия, лантана, лантаноидов, германия, титана, циркония, гафния. В третьей части книги изложены основы химии и технологии ванадия, ниобия, тантала, селена, теллура, молибдена, вольфрама, рения. Наибольшее внимание уделено свойствам соединений элементов, имеющих значение в технологии. В технологии каждого элемента описаны важнейшие области применения, характеристика рудного сырья и его обогащение, получение соединений из концентратов и отходов производства, современные методы разделения и очистки элементов. Пособие составлено по материалам, опубликованным из советской и зарубежной печати по 1972 год включительно.

 

 



Рейтинг@Mail.ru Rambler's Top100

Copyright © 2001-2012
(20.11.2017)