химический каталог




Поверхностные силы

Автор Б.В.Дерягин, Н.В.Чураев, В.М.Муллер

модинамической функцией р (h) — П (h). Одним из главных источников нарушения равновесности взаимодействия твердых тел служат электрические заряды различного происхождения, в первую очередь за счет возникновения и нарушения контакта (контактная электризация и трибоэлектризация). Этот источник неравновесности сил взаимодействия резко ослабляется в проводящих средах — растворах электролитов — и всего сильнее проявляется в газовой среде, где в то же время резко снижено влияние на неравновесность вязкости прослойки [26].

Всего легче экспериментально изучать процессы, сопровождающие нарушение контакта однородных тел, при расщеплении кристаллов, например слюды, а нарушение контакта разнородных тел — при отслаивании эластичных пленок от твердых подложек. В обоих случаях результаты испытаний дают значения удельной работы отрыва, а не силы; при этом, как правило, процесс отслаивания идет существенно неравновесно. Случай контакта разнородных фаз приводит, как отметил еще Гельмгольц, к образованию двойного электрического слоя.

Равновесная работа, необходимая для нарушения контакта на единицу площади, может включать следующие Слагающие: дисперсионную Wm; электростатическую We, равную (если в процессе отрыва разность потенциалов U остается постоянной, что, однако, редко реализуется) We = 1/zoU, где а — поверхностная плотность зарядов двойного слоя. Что касается гетерополярной химической связи, типа водородной, то отделить ее от электростатической является нелегкой задачей. Доля гомеополярной связи в работе адгезии в зависимости от рода контактирующих фаз может варьировать от нуля до относительно очень высокой. Вклад электростатической составляющей также сильно зависит от природы контактирующих тел через значения плотности зарядов образующееся в контакте двойного слоя. Обычно, оценивая значения о из теоретических соображений, получают заниженные значения Wei противоречащие тем оценкам значений а, которые можно получить из экспериментов.

Соотношение этих компонент в работе адгезии резко меняется в результате неравновесного характера процесса отслаивания, являющегося скорее правилом, чем исключением. К сожалению, часто обращают внимание только на один источник неравновесности процесса отрыва, который связан с механическими потерями, сопровождающими изгиб отрываемой пленки. Эти потери, однако, не имеют никакого отношения к механизму собственно нарушения адгезии и могут быть исключены.

Как было показано 126], существует другой неразрывно связанный с процессом нарушения адгезионного контакта источник неравновесности, .способный увеличивать работу отрыва на несколько порядков. Этот источник обусловлен тем, что процесс разделения обкладок исходного двойного слоя вследствие затруднений его разряда идет далеко не при постоянной разности потенциалов. В результате этого работа с ростом скорости отслаивания резко возрастает. Одновременно наблюдается резкое возрастание работы отслаивания при понижении давления окружающего газа, что объясняется затруднением газового разряда, способного устранять заряды двойного слоя. Обращая внимание только на механические потери в отслаиваемой пленке, эту закономерность очевидно объяснить нельзя.

ЛИТЕРАТУРА

1. Derjaguin В. 7.— Kolloid-Ztschr., 1934, Bd. 69, N 2, S. 155—164; Журн. физ. химии, 1935, т. 6, № 10, с. 1306—1319.

2. Ландау Л. Д., Лифшиц Е. М. Теория упругости. М.: Наука, 1970. 202 с; Лейбензоп Л. С. Курс теории упругости. М.: Гостехиздат, 1947. 570 с.

3. Derjaguin В. К, Muller V. Af., Toporov Y. P.— J.Colloid and Interface Sci., 1975, vol. 53, N 2, p. 314—326; Коллоид, журн., 1975, т. 37, № 3, с. 455—459; № 6, с. 1066-1074.

4. Muller V. М., Derjaguin В. V., Toporov Y. P.— Colloids and Surfaces, 1983, vol. 7, N 3, p. 251—259; Коллоид, журн., 1983, т. 45, № 3, с. 455—463.

5. Johnson К. L.— Brit. J. Appl. Phys., 1958, vol.9, N 1, p. 199—201.

6. Johnson K. L., Kendall K., Roberts A. D.— Proc. Roy. Soc. London A, 1971, vol. 324, N 2, p. 301—322.

7. TaborD.— J. Colloid and Interface Sci., 1977

страница 224
< К СПИСКУ КНИГ > 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 100 101 102 103 104 105 106 107 108 109 110 111 112 113 114 115 116 117 118 119 120 121 122 123 124 125 126 127 128 129 130 131 132 133 134 135 136 137 138 139 140 141 142 143 144 145 146 147 148 149 150 151 152 153 154 155 156 157 158 159 160 161 162 163 164 165 166 167 168 169 170 171 172 173 174 175 176 177 178 179 180 181 182 183 184 185 186 187 188 189 190 191 192 193 194 195 196 197 198 199 200 201 202 203 204 205 206 207 208 209 210 211 212 213 214 215 216 217 218 219 220 221 222 223 224 225 226 227 228

Скачать книгу "Поверхностные силы" (3.52Mb)


[каталог]  [статьи]  [доска объявлений]  [прайс-листы]  [форум]  [обратная связь]

 

 

Реклама
корпоративное такси
световые буквы купить
litened 80-50 масса
курсы по ремонту кондиционеров в самаре

Рекомендуемые книги

Введение в химию окружающей среды.

Книга известных английских ученых раскрывает основные принципы химии окружающей среды и их действие в локальных и глобальных масштабах. Важный аспект книги заключается в раскрытии механизма действия природных геохимических процессов в разных масштабах времени и влияния на них человеческой деятельности. Показываются химический состав, происхождение и эволюция земной коры, океанов и атмосферы. Детально рассматриваются процессы выветривания и их влияние на химический состав осадочных образований, почв и поверхностных вод на континентах. Для студентов и преподавателей факультетов биологии, географии и химии университетов и преподавателей средних школ, а также для широкого круга читателей.

Химия и технология редких и рассеянных элементов.

Книга представляет собой учебное пособие по специальным курсам для студентов химико-технологических вузов. В первой части изложены основы химии и технологии лития, рубидия, цезия, бериллия, галлия, индия, таллия. Во второй части книги изложены основы химии и технологии скандия, натрия, лантана, лантаноидов, германия, титана, циркония, гафния. В третьей части книги изложены основы химии и технологии ванадия, ниобия, тантала, селена, теллура, молибдена, вольфрама, рения. Наибольшее внимание уделено свойствам соединений элементов, имеющих значение в технологии. В технологии каждого элемента описаны важнейшие области применения, характеристика рудного сырья и его обогащение, получение соединений из концентратов и отходов производства, современные методы разделения и очистки элементов. Пособие составлено по материалам, опубликованным из советской и зарубежной печати по 1972 год включительно.

 

 



Рейтинг@Mail.ru Rambler's Top100

Copyright © 2001-2012
(24.01.2017)