химический каталог




Химия и технология редких и рассеянных элементов. Часть 2.

Автор Большаков К.А.

таются в анодном остатке. В качестве электролита чаще используют расплав NaCl или расплав смеси NaCl с КС1. Электролит, содержащий TiCl2, сравнительно слабо взаимодействует с железом, и корпус электролизера может быть выполнен из стали. Электролиз ведут при 740—870°, содержании TiCl2 в электролите 4,5— 5,5% и катодной плотности тока — 5—б А/см2. При этих условиях получают качественный металл в виде дендритов размером 0,5—4 мм; выход по току 58—63%.

Исследуется также использование растворимых анодов из материалов, полученных восстановлением рутила кальцием или гидридом кальция [34, 45, 53, 58].

И обидное рафинирование титана. Титан, полученный металлотермиче-скими способами, содержит довольно значительное количество примесей, меняющих его свойства. Однако в ряде отраслей новой техники, например ' в электронной промышленности, требуется титан высокой чистоты. Наибольшее развитие получило рафинирование титана методом термической диссоциации иодидов. Метод основан на переносе титана в виде легколетучих иодидов. Он осуществляется в аппарате, имеющем две температурные зоны (рис. 86). В низкотемпературной зоне титан реагирует с иодом, образуя Til4 или Til2, которые диффундируют в

зону высоких температур. В высокотемпературной зоне происходит термическая диссоциация иодидов; титан отлагается на накаленной металлической нити, а иод возвращается в зону реакции образования иодидов. Процесс проводят в вакууме (1 • 10"4—1 • 10_5мм рт. ст.).

На рис. 87 показана зависимость скорости отложения титана на нити (при постоянной ее температуре) от температуры в зоне реакции. Максимальная 0' wo 200 ШГьоо 500 6QQ скорость отложения титана наблюдается Температура реакционного шуда°С при 150—200° и выше 500°; в интервале Рис. 87. Скорость отложе- 320-470° она практически равна нулю, ния титана на нити в зависи- при низкой температуре образуется Til4; мости от температуры губки выше 200° начинается образование TiI2V

до 500° летучесть которого очень мала. Следовательно, могут быть выбраны два варианта: низкотемпературный (переносчик Til4) и высокотемпературный (переносчик Til2). В указанном интервале температур многие примеси, находящиеся в черновом металле, не реагируют с иодом (кислород, азот) либо образуют нелетучие (магний) или термически нестойкие иодиды (хром, медь, железо, никель, кремний и др).Ите и другие к нити не переносятся. Высокотемпературный процесс имеет некоторые преимущества; например, при 500° увеличивается образование Fel2, менее летучего, чем Fel3, и перенос железа уменьшается; уменьшается перенос кремния, фосфора, марганца, никеля и др.

Термическая диссоциация иодидов начинается при 1100°; с повышением температуры скорость ее увеличивается. Однако выше 1500— 1550° скорость отложения титана замедляется вследствие возрастания скорости испарения металлического титана. Оптимальная температура нити — 1400°. Скорость отложения титана зависит также от давления паров Til4 в аппарате и расстояния между зоной образования ио-дида и накаленной нитью. При повышении давления до 15 мм рт. ст. скорость отложения титана растет, а затем начинает уменьшаться. Это объясняется возникновением градиента парциальных давлений паров иода, препятствующего диффузии.

Промышленные реакторы выполняют из материалов, не взаимодействующих с иодом (молибден, нихром, специальные эмали). Рафинируемый материал в раздробленном состоянии помещают в кассетах около боковых стенок реактора, температуру которых поддерживают постоянной (100°) с помощью водяного термостата. В промышленных аппаратах получают прутки титана диаметром 30—40 мм и весом до до 15 кг. Иодидный процесс недостаточно производителен, в нем велики энергетические затраты (до 200 кВт-ч на 1 кг Ti). Иодидный титан почти в 4 раза дороже магниетермического. Однако иодидный способ позволяет получить наиболее чистый металл. Имеются данные о получении безтигельной зонной плавкой иодидного металла с содержанием титана 99,9999% [11, 31, 34, 45].

ЦИРКОНИЙ И ГАФНИЙ

ХИМИЯ ЦИРКОНИЯ

страница 158
< К СПИСКУ КНИГ > 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 100 101 102 103 104 105 106 107 108 109 110 111 112 113 114 115 116 117 118 119 120 121 122 123 124 125 126 127 128 129 130 131 132 133 134 135 136 137 138 139 140 141 142 143 144 145 146 147 148 149 150 151 152 153 154 155 156 157 158 159 160 161 162 163 164 165 166 167 168 169 170 171 172 173 174 175 176 177 178 179 180 181 182 183 184 185 186 187 188 189 190 191 192 193 194 195 196 197 198 199 200 201 202 203 204 205

Скачать книгу "Химия и технология редких и рассеянных элементов. Часть 2." (3.06Mb)


[каталог]  [статьи]  [доска объявлений]  [прайс-листы]  [форум]  [обратная связь]

 

 

Реклама
плитка vanilla stone beige
триплексное исследование брахиоцефальных артерий на экстракраниальном уровне
Подметальная машина Karcher S 550
мусорные контейнеры с крышкой на колесах пластиковые

Рекомендуемые книги

Введение в химию окружающей среды.

Книга известных английских ученых раскрывает основные принципы химии окружающей среды и их действие в локальных и глобальных масштабах. Важный аспект книги заключается в раскрытии механизма действия природных геохимических процессов в разных масштабах времени и влияния на них человеческой деятельности. Показываются химический состав, происхождение и эволюция земной коры, океанов и атмосферы. Детально рассматриваются процессы выветривания и их влияние на химический состав осадочных образований, почв и поверхностных вод на континентах. Для студентов и преподавателей факультетов биологии, географии и химии университетов и преподавателей средних школ, а также для широкого круга читателей.

Химия и технология редких и рассеянных элементов.

Книга представляет собой учебное пособие по специальным курсам для студентов химико-технологических вузов. В первой части изложены основы химии и технологии лития, рубидия, цезия, бериллия, галлия, индия, таллия. Во второй части книги изложены основы химии и технологии скандия, натрия, лантана, лантаноидов, германия, титана, циркония, гафния. В третьей части книги изложены основы химии и технологии ванадия, ниобия, тантала, селена, теллура, молибдена, вольфрама, рения. Наибольшее внимание уделено свойствам соединений элементов, имеющих значение в технологии. В технологии каждого элемента описаны важнейшие области применения, характеристика рудного сырья и его обогащение, получение соединений из концентратов и отходов производства, современные методы разделения и очистки элементов. Пособие составлено по материалам, опубликованным из советской и зарубежной печати по 1972 год включительно.

 

 



Рейтинг@Mail.ru Rambler's Top100

Copyright © 2001-2012
(06.12.2016)